真空镀膜的工艺流程

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真空镀膜是一种在高真空环境下，通过物理或化学方法在基材表面沉积薄膜的技术‌

1。其核心工艺流程可分为以下几个关键阶段：

预处理阶段

基材需彻底清洁，包括除油除尘等基础处理。对于塑料等难附着的材料，还需采用化学方法（如电晕处理、等离子体辉光放电法）激活表面，增强镀膜附着力‌

2。此阶段类似“化妆前洗脸”，直接影响后续镀膜质量。

底涂环节

通过喷涂或浸泡专用镀膜油（如S2-97T）填补基材表面微小缺陷，形成平整底层。需在60-70℃烤箱中烘烤2小时，确保底涂完全固化‌

真空镀膜

将处理好的工件送入真空室，抽至极高真空度（如珠穆朗玛峰顶空气稀薄度的100倍）‌

主要方法包括：

‌物理气相沉积（PVD）‌：如磁控溅射，通过氩离子轰击靶材，使金属原子均匀沉积在基材表面‌

‌真空蒸镀‌：加热金属材料（如铝线）使其蒸发，原子凝结成膜‌

此阶段需精确控制温度、真空度等参数，否则易导致整批产品报废‌

后处理

‌面涂‌：镀膜后涂覆耐磨涂料（如911、889型号），增强表面硬度‌

‌染色与烘干‌：部分产品需染色，最后以50℃低温烘干完成流程‌

冷却与检测

镀膜后需关闭热源，冷却约1小时‌玻璃等基材需通过颜色检测和表面质量检验，确保膜层均匀性‌。